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      英偉達安培顯卡:全線支持光線追蹤 三星10nm工藝

      3月12日消息 根據外媒WCCFTECH的報道,爆料消息稱英偉達的下一代GPU架構將基于三星10nm制程,而不是之前報道的臺積電7nm工藝,據稱使用的10nm制程更接近于三星提供的8LPP技術,另外新的Tegra芯片也將使用相同的制程。

      外媒表示,英偉達安培架構曝光的GPU有GA102、GA013、GA104、GA106和GA1075款,配置最高的是GA102。報道還稱英偉達新款GPU將全部支持RTX(實時光線跟蹤),這意味著英偉達在安培架構上對RT核心設計進行升級,使其在性能較弱的顯卡中也能實現光線追蹤的效果。

      爆料者@CorgiKitty提供的信息顯示,配置最低的GA107為1280流處理器,4GB顯存,最高的GA102 GPU為5376流處理器,12GB顯存,其中GA102比上代的RTX 2080Ti性能提升了40%。

      IT之家曾報道,受到疫情的影響,英偉達曾宣布將月底GTC的大會改為線上直播。根據外媒anandtech的最新消息,GTC線上直播也將取消,英偉達將會采用新聞稿的形式公布新品,時間定在3月24日。

      關鍵詞: 英偉達 顯卡

      責任編輯:Rex_08

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